プラズマ装置の種類と仕組みとは

プラズマ装置は半導体の洗浄や各種製品の表面処理を行うために用いられており、環境を汚染する薬品を使用する必要がないというメリットがあります。ちなみにシリコンや金属などの無機物質の表面を化学処理したい場合は強力な酸性溶液が必要で、ガラスを溶かすためには人体に有害なフッ化水素が使用されます。プラズマによって表面処理を行う装置の仕組みですが、真空ポンプを用いて容器の空気を抜いてからガスを送り込みます。ガスで満たされた後に強力な電磁波を照射させて、原子をプラズマ化させて表面処理をする材料を晒して反応させます。

反応後に電磁波の照射を停止させて、容器内に空気を送り込めば取り出すことができます。プラズマ装置の反応容器(チャンバー)は使用目的によってさまざまで、実験室で使用するタイプであれば卓上式の機種が販売されています。産業用に製品の表面処理や洗浄を行うためのプラズマ装置であれば、大容量のチャンバーを備えています。一般的なプラズマ装置では真空の状態を作り出す必要があるので、連続処理は不向きです。

チャンバーに出し入れする際に真空ポンプを使用して空気を抜き、ガスを送り込む必要があります。チャンバーの容積を大きくすれば1度の操作で大量の製品を加工することが可能になりますが、プラズマ状態のガスにムラが生じやすくなるという問題が生じます。そのため、大容量のプラズマ装置のチャンバーはガスが均一に拡散するための撹拌装置を備えている製品もあります。プラズマ装置のことならこちら

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